台式隐形眼镜等离子清洗系统,迷你型台式等离子系统,台式等离子清洗系统
等离子体广泛的应用在隐形眼镜的生产中。等离子用来在镀膜前活化镜片材料,也可用来侵蚀表面,暴露出下面的表层。在这两个应用中等离子都可以替代难用的、耗时的、昂贵的湿化学方法。 用于制造隐形眼镜的玻璃带有铸型时产生的聚合物污染层和/或脱模剂。
AM300S切割式研磨仪
切割式研磨仪可以对软性的、中硬性的、韧性的及纤维性的样品进行快速粉碎,更高效的切割速度在面对热敏性样品的处理时可以迎刃而解。三相电机强劲输出,高扭矩力的切割使仪器在碰到极为复杂的样品时表现出强硬的本色。无级调速可以适应各种不同的样品,电机制动快速停机
反应离子刻蚀(RIE)/沉积(PEVCD)等离子处理系统
  产品介绍:BM8-II反应离子刻蚀(RIE)/沉积(PEVCD)等离子处理系统、反应离子刻蚀(RIE)及等离子体增强化学气相沉积 (PEVCD)系统用于反应离子刻蚀(RIE)及等离子体增强化学气相沉积 (PEVCD)的等离子处理系统。BM8-II是一款定义反应离子